中国最先进的光刻机最新突破国产最新光刻机

近两年来，由于华为被制裁的原因，让芯片成为当前自带流量的词汇，牵动着14亿国人的心。我们经常在网上可以看到，一些外媒对中国芯片的观点--“比较落后” 。这虽然不是我们看到的，但不可否认的是，国产芯片确实与发达国家存在着一定的差距。
目前，最主流的芯片是硅基芯片。硅基芯片的制造，首先要把一粒粒沙子进行融合，然后提取出纯度高达99.999％的硅晶圆，再经过集成线路图的设计、光刻、蚀刻、等离子注入以及封测等一系列复杂的工序后，才能被应用在各种各样的电子设备上。
在当今的半导体领域，美、日、韩和欧洲垄断着核心技术、设备和化学材料，如美国掌握着EDA工业软件，韩国掌握着先进的芯片制程工艺、日本垄断着光刻胶、欧洲掌握着光刻机的制造。
这些国家，为了遏制我国科技的发展，早在几十年前就签订了《瓦森纳协定》，禁止向我国出口核心关键技术，这也是我国企业即便是掌握着极其先进的芯片设计能力和芯片制程工艺，也无法独自制造出高端芯片的原因。
国产光刻机再获突破
为了打破困局，我国企业、科研人员已经彻底抛弃了“造不如买，买不如租”的思想，坚定地走上了自研的道路，全力研制国产光刻机，旨在打破西方国家的技术封锁，实现芯片自由。
2019年9月16日，中科院正式宣布，已根据“卡脖子清单”成立了对应的科研攻关小组，尤其是光刻机攻关团队，立下了军令状，争取在最短的时间内突破EUV光刻技术，制造出国产EUV光刻机。
然而，让所有人没想到的是，中国科学家再一次上演“中国速度”，突破EUV光刻关键技术。
近日，据央视报道，由中科院高能物理研究所承建的国内首台高能同步辐射光源科研设备开始安装，安装完成度已达到70％。除此之外，中科科美研制的直线式劳埃透镜镀膜装置及纳米聚焦镜镀膜装置已交付给上海微电子使用。
想必了解过光刻机的朋友都知道，EUV光刻机是由双工作台、光源、光学镜头三大核心组件组成。之前，清华大学攻克了EUV光源技术，中科院攻克了双工作台。目前，我国唯有光学镜头未能攻克。值得一提的是，用于EUV光刻机上的光学镜头，世界上只有蔡司一家企业能够生产。
如今，随着国内首台高能同步辐射光源科研设备的安装及透镜镀膜装置的投入使用，在一定程度上缓解了国内企业对光刻机镜头的压力。
想必大家都清楚，中国科学家攻克EUV光刻机三大核心技术，对“中国芯”的发展意味着什么。
美国院士：中国学者不睡觉吗
中国在短短不到一年的时间内，掌握光刻机的三大核心技术，瞬间惊动全球，纷纷向中国科学家表示敬意。
其实，早在去年，我国攻克量子芯片关键技术的时候，美国科学院院士Marlan Scully教授在访问中科大的时候，就曾调侃道：中国学者在短短的时间内攻克那么多未来核心技术，真的是太可怕了，难道你们都不睡觉吗？
对此，我想说的是，不是中国科学家不睡觉，只因为是被老美逼得太紧，不得不充分发挥自己的聪明才智，在最短的时间内攻克技术壁垒，实现技术自由。
曾经，我经常听到“哪有什么岁月静好，只是有人在替你负重前行罢了”这句话，当时不也不是很懂，只觉得这句话很文雅，现在终于懂得了它真正的含义：每一个人都在为了中国的强大，国人不受他人的欺负，都在各自的岗位上默默地奉献着自己的力量！

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