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有顶级的镜头和光源，没极致的机械精度，也没有用 。光刻机里有两个同步运动的工件台，一个载底片，一个载胶片 。两者需始终同步，误差在2纳米以下 。两个工作台由静到动，加速度跟导弹发射差不多 。而中国目前还缺少这样的核心器件，还需要海外进口 。
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中科院院士刘明表示虽然这些年我国在关于光刻机的很多领域取得进展，但是总体来说国内的光刻机技术与国外技术依旧有15到20年 。
目前中国在蚀刻机领域已经突破了5nm，追平与世界的差距，我们也希望有一天我们能够在光刻机领域利用后发优势追求与世界的差距 。
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