光刻机是什么专业学的光刻机是什么( 三 )

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中国光刻机的发展现状受《瓦森纳协定》影响，“瓦森纳安排”规定成员国自行决定是否发放敏感产品和技术的出口许可证，并在自愿基础上向“安排”其他成员国通报有关信息。但“安排”实际上完全受美国控制。所以中国在前几年一直无法获取到最新的光刻机，直到2018年，中芯国际花费1.2亿美元向荷兰顶级光刻机厂商ASML订购了一台最先进的EUV(极紫外光)技术光刻机。

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和西方国家相比，中国一直最为缺少的半导体生态，而这也限制了中国光刻机的发展，像国外，IC设计厂商、晶圆体代工厂直接和光刻机进行技术交流、扶持，从而形成一条完整的产业链，拥有完整的半导体生态，光刻机制造厂商可以生产出最符合IC设计厂商以及晶圆体加工厂的设备，而IC设计厂商、晶圆体代工厂对光刻机制造厂商的技术对接、扶持又促进了光刻机设备的技术发展，从而形成一个正循环。

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比如中国台湾台积电林本坚创新性地提出浸没式光刻设想后，ASML开始与台积电合作开发第四代浸没式光刻机，并在 2007年成功推出第一台浸没式光刻机TWINSCANXT:1900i，该设备采用折射率达到 1.44 的去离子水做为媒介，实现了 45nm 的制程工艺，并一举垄断市场。

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这造成当时的另两大光刻巨头尼康、佳能主推的157nm 光源干式光刻机被市场抛弃，不仅损失了巨大的人力物力，也在产品线上显著落后于 ASML，这也是尼康、佳能由盛转衰，ASML 一家独大的重要转折点，而这一方面又巩固了台积电在晶圆代工上的龙头地位，让台积电掌握了最为先进的制加工工艺，促进了台积电的发展。

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中国市场是没有这样的半导体生态的，除了海思之外，上下游都没有在世界领先的半导体厂商进行反哺产业链，在2017年梁孟松加入中芯国际之后，中芯国际才掌握了12纳米的加工工艺，与台积电还有着明显差距。

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目前上海微电子在封装光刻机和LED光刻机领域都取得了突破，公司的封装光刻机已在国内外市场广泛销售,国内市占率达到80%,全球市占率40%，但是用于生产芯片的光刻机目前才掌握90nm光刻机，目前上海微电子在攻克45nm的工艺技术。

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上海微电子装备有限公司光刻机现场展示
而至于曝光的中国研发成功紫光超分辨光刻机实现22纳米工艺制程，结合多重曝光技术后，可用于制造10纳米级别的芯片，纯属误读，紫光超分辨光刻机适用于特殊应用，类似的应用范围是光纤领域，5G天线，无法应用在集成电路领域。

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超分辨光刻设备加工的4英寸光刻样品
为什么造光刻机这么难，光刻机需要体积小，但功率高而稳定的光源。ASML的顶尖光刻机，使用波长短的极紫外光，光学系统极复杂，而位于光刻机中心的镜头，由20多块锅底大的镜片串联组成。镜片得高纯度透光材料高质量抛光。ASML的镜片是蔡司技术打底。镜片材质做到均匀，需几十年到上百年技术积淀，德国一些抛光镜片的工人，祖孙三代在同一家公司的同一个职位。

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